米国､オランダ､日本が対中国｢半導体包囲網｣
露光システム以外の製造装置も輸出規制対象に
2023/02/06
https://toyokeizai.net/articles/-/649705?display=b
●中国の国産化率は10％未満
アメリカ政府は数年前から、中国企業による先端半導体の製造技術習得を繰り返し阻もうとしてきた。
2018年には、ASML製のEUV（極端紫外線）露光システムの対中輸出を禁止するようオランダ政府に要請。同システムは回線幅7nm（ナノメートル）以下の先端プロセス技術に欠かせない装置であり、現時点ではASMLが世界唯一のサプライヤーだ。
EUV露光システムの入手が事実上不可能になると、中国の半導体メーカーは1世代前のDUV（深紫外線）露光システムを用いたプロセス技術の改良により、14nmまたはそれ以下の微細加工の実現を目指してきた。
それに対応できる装置のサプライヤーは、ASMLと日本のニコンの2社だけだ。
そんななか、アメリカ政府は2022年10月に先端半導体技術の対中輸出規制を大幅に強化し、自国の製造装置メーカーに厳しい制約を課した。
そのうえでアメリカ政府は、オランダ政府と日本政府が同様の対中輸出規制を法制化するよう、両国への働きかけを強めていた。